等離子（zǐ）清洗機中頻、射頻、微波（bō）電（diàn）源的區別！

等離子清洗機常見電源的頻率有3種，40KHz，13.56MHz，2.45GHz，也就是平時大家據說的中頻、射頻（pín）、微波。3種頻率的電源各有其優勢，各有各（gè）的頻率，今天（tiān）我（wǒ）給大家普及一些關於等離子清洗機電源關於頻率方麵的知識

40KHz的（de）電源（yuán）就是大家平（píng）時所稱的中頻電源，簡單的來說就是能量高，但是等（děng）離子的密（mì）度較（jiào）低。中頻電源在真空等離子清洗（xǐ）上被選用的基本上是（shì）真空腔體（tǐ）體積（jī）較大（一般（bān）大於100L，電極板數量較多（duō），因為相對於射頻中頻（pín）在大功率電源比（bǐ）如5000W、10KW、20KW本身（shēn）性能更穩定、對於產生的等離子體中分子、離子獲得的動能更大、滲透性更（gèng）好、偏重（chóng）利用物理反應

此（cǐ）外由於中頻電源直接輸出到電極板的電壓較高，其自偏壓較高，產生的負自偏壓引（yǐn）起了正離子的功率吸收，這也會直接引起電極板的溫度升高；同時由於在這過（guò）程中，離子會吸收部分的功率（lǜ），因此用於電離的電子（zǐ）的功率吸（xī）收就與（yǔ）相應的減少了，從而造成等離子體密度的較低和離子的能量較高，工藝處理溫度也會稍高。

射頻電源的功率都比較低，在（zài）真空等離子清洗機上被選用的基本（běn）上是真空（kōng）腔體體積較小的設備，相對於中頻來說因（yīn）為（wéi）它頻率高（gāo）、雖然分子、離子獲得的（de）動能沒有中頻（pín）的高，但是能量的密度高，就處理（lǐ）效率來講還是（shì）明顯優於中頻而且其（qí）物理反應和化學反應都表現很好

射頻等離子（zǐ）清洗機在射頻客性耦合方式（shì）的（de）放電過程中，電極板產生的自偏壓受到放電（diàn）氣壓的影響，自（zì）偏壓較小，電子的功率吸收主要（yào）來自於與電極板表麵的振蕩鞘層相互作用。因此，射頻等離（lí）子清洗設備（bèi）的激發頻率越高電（diàn）子的（de）功率吸收也會相（xiàng）對越高，相應的離子轟擊的能量就會降低。

而說到微波等離子（zǐ）清洗機放電，這種清洗沒有自（zì）偏壓，離子濃度高（gāo），離子能量低，主要（yào）有兩種方式，即表麵波型和電子回旋共振型，前者一般用於商業清洗，是通過輻射微波電磁場直接將氣（qì）體擊穿實現放電，其（qí）中並沒（méi）有離（lí）子（zǐ）的加速作用，其電子密度較高，但通常要求放電（diàn）氣壓高，從而會引（yǐn）起（qǐ）等離子體局域化比較嚴重的情況，不利於縱深（shēn）清洗和多（duō）層麵的大尺度的清洗處理，此外，微波等離子清洗機也不適合對一些精密的電（diàn）子（zǐ）元器件進行處理。現在微波式的（de）等離子目前真空腔體的（de）體積做不（bú）大，技術還不夠成熟一般隻能做到幾升（shēng）的容（róng）積，用於試驗室內）