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plasma等離子清洗
plasma等離子清洗就是7799天天看影视常說的等離子清洗技術，等離（lí）子清洗的應用，起源於 20 世紀初，隨著高科技產業的（de）快速發展，其應用愈來（lái）愈（yù）廣，目前已（yǐ）在眾多高科技領域中，居於關鍵技術的地位（wèi）。等離子清洗技術對產業經濟（jì）和人類文明（míng）影響最大，首推電子資訊工業，尤其是半導體業與光電工業。等離子清洗已應用於各（gè）種電（diàn）子元件的製造，可以確信，沒有（yǒu）等（děng）離子清（qīng）洗技術，就沒有今日這麽發達的電子、資訊和通訊產業。此外，等離子清洗技術也應用在光學工業、機械（xiè）與航天工業、高分子工業、汙染防治工業和量測工（gōng）業上，而（ér）且是產（chǎn）品提升的關鍵技（jì）術。比（bǐ）如說光學元件的鍍膜（mó）、延長模具（jù）或加工工具壽命的抗磨耗層、複合材料的中間 層、織布或隱（yǐn）型鏡片的表麵處理、微感測器的（de）製造，超微機械的加工技術（shù）、人工關節、骨骼（gé）或心 髒瓣膜的抗磨耗層等皆需等離子技術的進步，才能開發完成。
等離子技術是一新興的領域，該領域結合等離子物理、等離子化學和氣固相界麵的化學反應，此為典型的高科技行業，需跨多種領域，包括化（huà）工、 材料和電機，因此將極具挑戰性，也（yě）充滿機會。 由於（yú）半導體和光電材料在未來的快速成長，此方麵應用需求（qiú）將越來越大。
等離子體與物體表麵的作用（yòng）
在等（děng）離子體中除了氣體分子、離（lí）子和（hé）電子外， 還存在受到能量激勵狀態的（de）電中性的（de）原子或原（yuán）子團 （又稱自由基），以及等離子（zǐ）體發射出的光線。其（qí） 中波的（de）長短、能量的高低在等（děng）離子體與物質表麵相 互作用時有著重要（yào）作用。
原子團等自由基與物體表麵的反應 由於這些自由基（jī）呈（chéng）電重型，存在壽命較（jiào）長，而 且在等離子體中的數（shù）量多於離子，因此自由基在（zài）等 離子體中發揮著重要作用。自由基的（de）作用主要表現 在化學反應（yīng）過程中能量傳遞的“活化”作用，處 於激發狀態的自由基具有較高的能（néng）量，因此易於與 物體表麵分子結合時會形成（chéng）新的自由基（jī），新形成（chéng）的 自由基同樣處於不穩定的高能量狀態，很可能發生 分解反應，在變（biàn）成較小分子同時生成新的自由（yóu）基， 這（zhè）種（zhǒng）反應過程還可能繼（jì）續進行下去（qù），最後分解成 水、二氧化碳之類（lèi）的簡單（dān）分子。在另一些（xiē）情況下， 自由基與物體表麵分子結合的同時，會釋放出大量 的結合（hé）能（néng），這種能量又成為引發新（xīn）的表麵反應推動 力，從而引發物體表麵上的物質發生化學反應而被 去（qù）除。
電子與物體表麵的作用
一方（fāng）麵電（diàn）子對物體表麵的撞擊作用，可促使吸 附在物體表麵的氣體分子發（fā）生分解（jiě）或解（jiě）吸，另一方 麵（miàn）大（dà）量的電子撞擊有利引發化學反應。由於電子質 量極小，因此（cǐ）比離子的移動速度（dù）要快得多。當進 行等離子體處理時，電子要比離子（zǐ）更（gèng）早到達物體表 麵，並使表麵帶有（yǒu）負電荷，這有利於引（yǐn）發進一步 反應。
離子（zǐ）與物體表麵的作用
通常指的是帶正電荷的陽離（lí）子的作用，陽離子 有加速（sù）衝向帶負電荷表麵的傾向，此時使物（wù）體表麵 獲得相當大的動能，足以撞擊去除表麵上附著的顆 粒性物質，7799天天看影视（men）把這種（zhǒng）現象稱為濺射現象。而通 過離子的衝擊（jī）作用可極大促進物體表（biǎo）麵化學反應發 生的幾率。
紫外線（xiàn）與物體表麵的反應
紫（zǐ）外線具有很強的光能，可使附著在物體表麵 物質的分子健（jiàn）發生斷裂而分解，而（ér）且紫外線具有很 強的穿透能力，可透過物體的表層深入達數微米而（ér）產生作用。
綜上所述（shù），可知等（děng）離子清洗機是利用等（děng）離子體內的各種具有高能量的物質的活化（huà）作用，將附著（zhe）在物體表麵的（de）汙垢徹底剝離去除。
