基本參數：
| 電源頻率 | 40KHz/13.56MHz |
| 容（róng）量（liàng） | 30L |
| 功率 | 0~500W（可調） |
| 腔體（tǐ）尺（chǐ）寸(mm) | 300*300*300 |
| 處理層數 | 7 |
| 外形尺寸(mm) | 650W*700D*1400H |
| 真空泵 | 油泵/幹泵+羅茨組合 |
| 真空度 | 5~100Pa（可調） |
| 腔體材質 | 316不（bú）鏽（xiù）鋼（gāng）/進口鋁合金（選配） |
| 氣體流量控製 | 0~500SCCM(MFC±2%) |
| 氣體通道 | 兩路(可增（zēng）加)：Ar/N2/H2/CF4/O2 |
| 等離子（zǐ）體發生器 | 40KHz/13.56MHz(選配) |
| 腔體（tǐ）溫度 | ＜30度 |
| 控（kòng）製方式 | PLC+觸摸屏 |
| 係統控製軟件 | 自主研發 |
| 電極陶瓷 | 進口高頻陶瓷 |
產品特點:
真空等離子（zǐ）清（qīng）洗機腔體、電源、真空泵等各類配件可以按照實際清洗的（de）材（cái）料自由定做，與常壓等離子相比，具有清（qīng）洗工藝參數自由調節、溫度低，清（qīng）洗（xǐ）全麵等特點。廣泛應用於活化，退鍍，改性，蝕（shí）刻，提升附著力和清洗等等（děng）功能。該設備（bèi）也是目前清（qīng）洗行業最環保，最節能，有效性好的理（lǐ）想（xiǎng）設備
主要功能：蝕刻：對於光致抗蝕劑聚酰亞膠（jiāo）的殘留和以矽化物為基本成分的塗層（céng）等材料的清除很有用（yòng）粘附提升：往基質（zhì）上添加活化能力（lì）強的化學基團（tuán）以提高其粘合劑（jì）的（de）黏著度。
清洗：清除材料上的光（guāng）學物質的汙染以及清除有機物殘留，氧化和（hé）金屬鹽等對材料的汙染（rǎn）。
活化：能使處理基材表麵生成所需化學極鍵；退鍍：使被處理基材除去金屬等材料，製作各種產品。
等離子清洗技術對產業經濟和（hé）人類文（wén）明影響最大，首推（tuī）電子資訊工業，尤其是半導體業與光電（diàn）工業。等離子清洗已應用於各種電子元件的製造，可以確信，沒有等（děng）離（lí）子清洗技術，就沒有今日這麽發（fā）達的電子、資訊和通訊產業。此外（wài），等離子清洗技術也應用在光學工業（yè）、機械與航（háng）天工業、高分子工業（yè）、汙染防治工業和量測工業上，而且是產品提升（shēng）的關鍵技術。比如說光學元件的（de）鍍膜、延（yán）長模具或加工工具壽（shòu）命的抗磨耗層、複合材料的中間（jiān）層、織布（bù）或隱型鏡片的表麵處理、微感測器的製造，超微機械的加工技術、人工關節、骨骼或心髒瓣膜（mó）的抗磨耗層等皆需等離子技術的進步，才能開發完成。
