等離子（zǐ）清洗機裏麵各種氣（qì）體的（de）清洗（xǐ）作（zuò）用

因為等離子清洗處理的材料（liào）不一樣，要求也不（bú）同，對於處理每一種工藝，都會選擇對應的氣體，並且根據清洗（xǐ）的程度，調整輸（shū）入氣體的比例，清洗的停留時間（jiān）等參數（shù）。目（mù）前等離子清洗機裏麵常用的氣體有空氣、氧氣、氬氣、氫氣、氬氫混合氣體、cf4等。每一種氣體的特性都不一樣，清（qīng）洗帶來的效果也不相同。有的還會選用混合氣體，即把多種氣體混合在一起使用，以達到最好的清洗效果。

那這些清洗工藝氣體都（dōu）是怎麽配比的呢？這個其實是（shì）很大公司的秘密，每個（gè）公（gōng）司（sī）都會有自己的一套清洗工藝，然後去調整測試的（de），今天（tiān）我給大家講的是各種氣體的特性，讓大家對於等離子清洗機的各（gè）種（zhǒng）氣體有一（yī）個了（le）解。

氫氣的主要作用（yòng）是用（yòng）來的金（jīn）屬表（biǎo）麵的氧化物做清理，其（qí）清洗的過程其實是化學還原反應，氫（qīng）氣（qì）離子和金屬表（biǎo）麵的氧氣離子（zǐ）化學反（fǎn）應變成水氣。

氧氣離（lí）子是用來清洗材料表麵的有機化合（hé）物，通過對有（yǒu）機化合物的氧化發生反應（yīng）達到清洗的目的。氬、氦、氮等非（fēi）反應氣體（tǐ）。氮處理可提高材料的硬（yìng）度和（hé）耐磨（mó）性。氬和氦氣體特性平穩，分子的充放電工作電壓低非常容易產生亞穩態分子，一方麵，運用（yòng）其高能粒子的物理學功效來清理易被氧化或還原物件（jiàn）。

Ar+轟擊（jī）汙物產生揮發物化（huà）學物質汙染物會從真空泵抽離出來，以防止表層化學物質的反應。氬（yà）非常容易產生亞穩態（tài）分子，與氧原子撞擊時產生正電荷變換和再重組。在plasma清洗（xǐ）設備中應用純氫（qīng）是效率（lǜ）很（hěn）高的，但考慮到了充放（fàng）電（diàn）的可靠性和安（ān）全係數，在等離子清洗設備中也可以應用氬氫化合物（wù）。此外（wài），還（hái）可以采用反向氧氣和氬氫氣的（de）清洗順序，這種清洗機具有（yǒu）易氧化、易還原的特點。

1)氬氣：物理學轟擊表麵是氬氣清理的原理。氬是有效的物理學plasma清理氣體，因（yīn）為它的原子大小，能用非常大的能量打（dǎ）中產品表層。正氬正離子會被負極板吸引住，撞擊力得以（yǐ）除去表層的一（yī）切汙漬。隨後這種氣體汙染物會（huì）隨著泵排出。

2)氧氣：與產（chǎn）品表層化學物質是有機化學反應（yīng）。比如，氧能夠合理地除（chú）去有機化學汙染物，與汙染物產生反應，形成二氧化碳、一氧化碳（tàn）和水。一般來說，化學反應很容易除去有機汙染物。

3)氫氣：氫可用（yòng）以除去金屬表層氧化物。它常常與氬混合以提升去汙能力。大家廣泛關心（xīn）氫的易燃性性（xìng）和氫氣儲存使用問題（tí），我（wǒ）們可（kě）以（yǐ）用氫產生器從水裏造成氫。除去潛在性的傷害。

4)cf4/sf6：氟（fú）化氣體主要是用來線路板上麵的，通過化學反（fǎn）應將氧化物轉換（huàn）為氯化（huà）物，用在半導（dǎo）體材料和pcb（印刷線（xiàn）路（lù）板）等工業生產（chǎn）