產品參數：
| 型號 | TS-PL150MA |
| 電源頻率 | 40KHz/13.56MHz |
| 容量 | 150L |
| 功率 | 0-1000W(可調) |
| 腔體尺寸 | (長寬高mm)500*500*600 |
| 極（jí）板層數 | 7層 |
| 外（wài）形尺寸 | (長（zhǎng）寬高mm)1200*1100*1730 |
| 真空泵 | 油泵/幹泵+羅茨組合 |
| 真空度 | ＜30Pa |
| 腔（qiāng）體材質 | 316不鏽鋼/進口鋁合金(選配) |
| 氣體流量控製（zhì） | 0-500SCCM(MFC±2%) |
| 氣體通道 | 兩路(可增加):Ar/N2/H2/CF4/02 |
| 等（děng）離子（zǐ）體發（fā）生器（qì） | 40KHz/13.56MHz |
| 腔體溫度 | ＜60℃ |
| 控製方式 | PLC+觸摸屏 |
| 係統控製軟件 | 自主研發V2.0 |
| 電極陶瓷 | 進口高頻陶瓷 |
等離子清洗原理（lǐ）：
等（děng）離子清洗原理如下：等離子體與固體表麵發生的反應可分為（wéi）物（wù）理反應和化學反應，即分為物理（lǐ）清洗和化學清洗。物理反應機（jī）製是活性粒子轟擊待清（qīng）洗表麵，使汙染物脫離固體表麵並被真空泵吸走；化學反應（yīng）機製是各種（zhǒng）活性（xìng）的粒（lì）子（zǐ）和汙染物（wù）反應（yīng）生成（chéng）易揮（huī）發（fā）性（xìng）的物（wù）質，再由真空泵吸走。
就反應（yīng）機理來看，等（děng）離子體（tǐ）清洗通常包括（kuò）以（yǐ）下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附在固體表麵；被吸附基團與固體表（biǎo）麵分子反應生成產物分子；產物分子（zǐ）解析形成氣相；反應殘餘物脫離表麵。典型的等離（lí）子體化學清洗工藝是氧（yǎng）氣（qì）等（děng）離子體清洗。主要（yào）是依靠等離子體中（zhōng）活性粒子（zǐ）的“活化作用”達到去除物體表麵汙漬（zì）的目的。通過等離子（zǐ）體（tǐ）產（chǎn）生的氧自由基非常活潑，容易與碳（tàn）氫化（huà）合物發生反（fǎn）應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等易（yì）揮（huī）發物，從而去除表麵的汙染物。
等離子體清洗的特點：
等離子體清洗技術的最大特點是（shì）對幾乎（hū）所有的基材類型，均（jun1）可進行（háng）處理。對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子（zǐ）材料，如聚脂（zhī）、聚丙烯、聚（jù）酰亞胺、環氧樹脂、甚至（zhì）聚四氟乙烯等都能很好（hǎo）地處理。等（děng）離子體清洗還具有以下幾個特點：用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷（shāng）害；容易采用數字控製技術，自動化程度高；整個工藝（yì）流（liú）程效率極高（gāo）；具有（yǒu）高精度的控製裝置，時間控製的精度很高；且正（zhèng）確的等離子體清洗（xǐ）不（bú）會在表麵產生損傷層，表麵質量得（dé）到保證；由於是在真空中進行，不汙染環境，保證清洗表麵不被二（èr）次汙染。
