100L真空等離子清洗機

基本（běn）參數：

真空等離子清洗（xǐ）機清洗原（yuán）理：

等離（lí）子清洗原理如下：等離子清洗簡稱幹法清洗，是設備利用射頻等離子源的激發，使工藝氣體激發成為離（lí）子（zǐ）態，與清洗材（cái）質表麵的（de）汙染物發生物理和化學反應，通過真空（kōng）泵將（jiāng）反應（yīng）產生的汙染物排走，達到清洗效果。

等離子體是在膠體內包（bāo）括足夠多的正負電荷數量，且正負電荷數目相當的帶電（diàn）粒子的物質堆積狀態，或者是由大量帶電粒子組成的非（fēi）凝聚係統。等離子體中（zhōng）包括正負電荷和亞穩態的分子和原子等。一方麵，當各種活性粒（lì）子與被清洗物體表麵彼此碰觸時，各種活（huó）性粒子與物體（tǐ）表麵雜質汙物會發生（shēng）化學反應，形成易揮發性的氣體（tǐ）等物質，隨後易揮發性的（de）物質會被真空泵吸（xī）走。例如，活性氧（yǎng）等離子體與材料表麵的有機物發生氧化反應。它的優點是清洗過程相對較快、選擇性相對好以及清除汙染物的效果非常好，缺點是產品外表麵發（fā）生氧化產生氧化物，附著（zhe）在產品表麵。另一（yī）方（fāng）麵（miàn），各種活性粒子會轟擊清洗材料表麵，使得材料表麵（miàn）的沾汙雜（zá）質會隨氣流（liú）被真空泵吸走。這種清洗方式本身不存在化學（xué）反應，在被清（qīng）潔材料表麵沒有留下任何氧化（huà）物，因此可以很好地保全被清洗物的純淨性，保障材料的各向異性。但是，它（tā）會對材料表麵造成很大損傷和侵蝕，會（huì）在材料表麵發生很大的反（fǎn）應熱，對被清洗表麵的雜質汙物選擇性差。例如（rú），用活性氬等離子體清洗物件表麵微粒汙染物，活性氬等（děng）離子體轟擊被清洗件表麵（miàn）後產生的揮發性汙染物會被真空（kōng）泵排出。

在實際生產中可使用化學方法和物理方法同時進行清洗。它的清洗速率通常比（bǐ）單獨（dú）使用物（wù）理清洗或化學清洗快。但考慮到（dào）一（yī）些氣體的易爆（bào）性能，需嚴格控製混合氣體中各氣體（tǐ）的占比，使其含（hán）量搭配合理。

等離子清洗可應用於半導體行業、薄膜電路、元器件封裝前、連接器粘接等行業的二（èr）次精密清洗。