氬氣（qì）真空等離子清洗機（jī）的原理，等離子處理（lǐ）為什麽...

氬氣是一（yī）種工業上麵常用（yòng）的氣體，不僅用於清（qīng）洗，也用於電焊（hàn）或者金屬切割，在等（děng）離子清洗中主要（yào）被（bèi）應用於基材表麵的物理清洗及表（biǎo）麵粗化，最大的特點就是在表麵清洗（xǐ）中不會造成精密電子器件的表麵氧化。正因（yīn）如（rú）此，氬等離子清洗（xǐ）機在半導體、微電子、晶圓製造等行業被廣泛應用。

氬氣在真空等離子清洗（xǐ）機中被電離所產生的（de）等離子體呈暗紅色。所（suǒ）以大家平（píng）時所見的真空等離子清洗機，機器（qì）啟動時，真空腔室裏麵都是（shì）顯示的暗紅色，表（biǎo）示真空等離子正在產生反應。

在（zài）相同的放電（diàn）環境下，氫氣和氮（dàn）氣所產生的等離子體顏色都是呈紅色，但氬等離子體的亮度會低於氮氣且高於（yú）氫氣，還是比（bǐ）較好區分的。

在晶圓、玻璃等產（chǎn）品表麵顆粒的清除過程中，通常會采用等（děng）離子體對材料表麵的顆粒（lì）進行（háng）轟擊，加以實現對（duì）顆（kē）粒的分散和（hé）鬆動處理，然後再進行離心清洗等處理工藝（yì），會有著（zhe）顯著的效果（guǒ）。在半導（dǎo）體封（fēng）裝應用（yòng）中尤為突出，在經過（guò）打線工藝後為防止導線氧（yǎng）化（huà），需采用氬等離子體（tǐ）或氬氫等離子對產品表麵進（jìn）行等離子清洗，實現更好的產品處理效（xiào）果。

等（děng）離子清洗機的表麵粗化處理也稱為表麵刻蝕處理，其主要目的是提升材料的表麵粗糙度，進而增強材（cái）料的粘（zhān）接、印刷和焊接等性能（néng）。其他活性氣體（tǐ）經處理後（hòu）也（yě）可提升產品表麵張力，但氬離子化產生的顆粒要更重，在電場的作用下氬離子的動能較高（gāo）於其他活性（xìng）氣體，所以其粗化效（xiào）果更號。氬（yà）氣在無機物表麵粗（cū）化的過程中應用最為廣泛，如玻璃基材的表麵處理、金屬基材的表麵處理等。

大氣壓等離子有三種效（xiào）果模式（shì）可選。一是選用 氬氣/氧氣 組合，主要麵向非金屬材料並且要求較高的處理效果（guǒ）時采用。 二是選（xuǎn）用 氬氣/氮氣 組合，主要麵向待處理產品（pǐn）有不能被處理（lǐ）的金屬區（qū）域，因氧氣的強氧（yǎng）化作用，替換為此方案中的（de）氮氣後，該問題可以加以控製。三是隻（zhī）采用氬氣（qì）的情況，隻采（cǎi）用氬氣也可以實現表麵改性，但是效果相對（duì）較低。此種情況較特殊，是少數工（gōng）業客戶需要有限度的同時均（jun1）勻的表麵改性時采用的方案。

大（dà）氣壓式等離子，也是低溫等離子，不會對材料表麵造成損傷。無電（diàn）弧，無需（xū）真空腔體，也（yě）無需有害氣體吸出係統，長時間使用並不會對操作人員造成身體（tǐ）損害。

等離子應用在清（qīng）洗機行業，主要分（fèn）為兩（liǎng）大類，一（yī）類（lèi）是常壓的，或者做大氣等離子清洗機，就是在平（píng）時正（zhèng）常環境下麵（miàn）直接使（shǐ）用的。另外一種是真空等離子清洗機，這個是需要在真（zhēn）空環境下麵使用（yòng）的。常壓的（de）等（děng）離子清洗機，主要是用來處理一些平麵立體的物體，比如手機玻（bō）璃（lí）板，而真空等離子清洗機則是用來處理（lǐ）一些異形件，或者對處理要求比較（jiào）高的物體。比如汽車連接件，這些物體直接用常（cháng）壓等離子清洗機，直接噴射處理肯（kěn）定不到位（wèi），這個時候就需要用到真空等離子清洗機

等（děng）離子（zǐ）處理為什麽需要真空環境?

在真空環境（jìng）產生等離子體的原因很多,主要（yào）有（yǒu）有兩個（gè）原因:

引（yǐn）入真空室的氣體（tǐ）在壓力環（huán）境下不會電離,在充入氣體電離產生等離子體之前必須達（dá）到（dào）真（zhēn）空環境。另外，真空（kōng）環境允許7799天天看影视（men）控製真空室中（zhōng）氣體（tǐ）種類，控製（zhì）真空室中氣體種（zhǒng）類對等離子處理體過程的可（kě）重複性是至關重要的。

要進行（háng）等（děng）離子處理產品,首先7799天天看影视產生等離子體。首先，單（dān）一氣體或者混（hún）合氣（qì）體被引入密封的（de）低壓真空（kōng）等離子體室。隨後這些氣（qì）體被兩（liǎng）個（gè）電極板之間產生（shēng）的射頻(RF) 激活，這些氣體中被激活的離子加速，開始震動。這種振動（dòng）“用力擦洗”需要清洗材料（liào）表（biǎo）麵的汙染物。

在處理過程中,等離子體中被激活的分（fèn）子和原子會發出紫外光，從而產生等離（lí）子體輝（huī）光（guāng）。溫度（dù）控（kòng）製係統（tǒng）常用於控製刻蝕速率。60 - 9d攝氏度溫度之間刻蝕，是室溫（wēn）刻蝕速度的四倍。對溫度敏感（gǎn）的部件或組件,等離子體蝕刻溫度（dù）可以控製在15攝氏度（dù）。7799天天看影视所有的溫度控製係統已經預編程並（bìng）集成到等離子體係統的軟件中間。設置保存每個等離子處理的（de）程（chéng）序能輕（qīng）鬆複製（zhì）處理過程。