等（děng）離子除（chú）油設備原（yuán）理（lǐ）解析

等（děng）離子體是部分電離的氣體，是物質常見的固體、液體、氣態以外的第（dì）四態。等離子體由電子（zǐ）、離子、自由基、光子以及其他中性粒子組成（chéng）。由於等離子體中的（de）電（diàn）子、離子和自（zì）由基等活性粒（lì）子的存在，其本身很容（róng）易與固體表麵發生反應。

等離子清（qīng）洗機的清洗機理，主（zhǔ）要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物（wù）體表麵汙（wū）漬的目的。就反（fǎn）應機理來看，等（děng）離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附在固體（tǐ）表麵（miàn）；被吸附基團與固體表麵（miàn）分（fèn）子反應生成（chéng）產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘餘物脫離表麵。 等離子體清（qīng）洗技術的最大特點是不分處理對象的基（jī）材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化（huà）物（wù）和大多（duō）數高分子材料，如聚丙烯、聚（jù）脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧（yǎng）、甚至聚四氟乙烯（xī）等都能很好地處理，並可實現整體和局部（bù）以及複（fù）雜結構的清洗。 等（děng）離子體清洗還具有以下幾個特點：容易采用數控技術，自動化（huà）程度（dù）高；具有高精度的控製裝（zhuāng）置，時間控製的精度很高；正確的等離子（zǐ）體清洗不會在表麵產生損（sǔn）傷層，表麵質量得到保證；由於（yú）是在真空中進行（háng），不汙染環境，保（bǎo）證清洗表麵不被二次汙染。

下麵以氧氣等離子體去除物體表麵（miàn）油脂汙垢為例，說（shuō）明這些作用：

從分析可以看出，等離子體對油脂汙垢的作用，類（lèi）似於使油脂汙垢發（fā）生燃燒反應；但不同之處在於是在低溫情況下發生的“燃燒”。

在氧（yǎng）氣（qì）等離子體（tǐ）中的氧原子自由基，激發（fā）態的氧氣（qì）分子，電子以及紫外線的共同作用下，油脂分子最（zuì）終被氧（yǎng）化成水和二氧化碳分子，並從物體表麵被（bèi）清除。

可以看出，用等離子體清除油汙的過程是一個使有機大分子逐步降解的過程，最終形（xíng）成的是水喝二氧化碳等小分子，這些小分（fèn）子以氣態（tài）形式被排除。等離子清洗的另一個（gè）特點是（shì）在清洗完成之（zhī）後物體已被徹底幹（gàn）燥。經過等離（lí）子體（tǐ）處理的物體表麵往往形成許多新的活性（xìng）基團，使物體表麵發生“活化”而（ér）改變性能，可以大大改（gǎi）善物體表麵的浸（jìn）潤性能和（hé）黏著性能，這對（duì）許（xǔ）多材料（liào）是非（fēi）常重要的。