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等(děng)離子清洗機
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首(shǒu)頁 新聞資訊 等離子體百科(kē) 氬氣真(zhēn)空等離子清洗(xǐ)機的原理,等離子處理為什麽需要真空環境?

氬氣真空等離子清洗機的原理,等離子處理為什麽...

氬氣是一種工業上麵常(cháng)用的氣體,不僅(jǐn)用於清洗,也用於電焊或者金屬切割,在等離子清洗中主要被應用於基材表麵(miàn)的物理(lǐ)清洗及表(biǎo)麵粗化,最大的(de)特點就是在表麵清洗中不(bú)會造成精密電子器件的表麵氧化。正因如此,氬等離子清洗機在半導體、微電子、晶圓製(zhì)造等行業被廣泛應用。

 

氬氣在真空等離子清(qīng)洗機中被(bèi)電離所(suǒ)產生的等離子體(tǐ)呈暗紅色。所以(yǐ)大家平時所見的真空等離子清洗機,機器啟(qǐ)動時,真空腔室裏麵都是顯示的暗紅色,表示真空等離子(zǐ)正在產生反應。

 真空等離子清洗機工作腔室

在(zài)相同的放電環境下,氫氣和氮氣(qì)所產生的等離子體顏色都是呈紅色,但氬等離子體的亮度會低於氮氣且高於氫氣(qì),還是比較好區分的。

 

在晶(jīng)圓、玻璃等產品表麵顆(kē)粒的清除過程中,通常會采(cǎi)用等離子體對材料表麵的顆粒進行轟擊,加以實現對顆粒的分散和鬆動(dòng)處理,然後再進行離(lí)心清洗等處理工藝,會有著顯著的效果。在半導體封裝應用(yòng)中尤為突(tū)出,在經過打線工藝後為防止導線氧化,需采用氬等離子體或氬氫等離子對產品表麵進行等離子清洗,實現更好的產品處(chù)理效果。

 

等離(lí)子清洗機的表(biǎo)麵粗化處理也稱為表(biǎo)麵刻蝕(shí)處理,其主要目的是提升材料的表麵粗糙度,進而增強(qiáng)材料的粘接、印刷和焊接等性能。其他活性(xìng)氣體經(jīng)處理後也可提升產品表麵張力,但氬離子化產生的顆粒要更重(chóng),在電場的作用下氬離子的動能(néng)較高於其他活性氣體,所以其粗化效果更號。氬氣在無機(jī)物表麵粗化的過程中應用最為廣泛,如玻(bō)璃基材的表麵處理(lǐ)、金屬基材的表麵(miàn)處理等。

 

大氣壓等離子有三種效果模式可選。一是選用 氬(yà)氣/氧氣 組合,主要麵向非金屬材料(liào)並且要求較高的處理效果時采(cǎi)用。 二是選用 氬氣/氮(dàn)氣 組合,主要麵向(xiàng)待處理產品有不能被處理的金屬區域,因氧氣的強氧化作用,替換為此(cǐ)方案中的氮氣後,該(gāi)問(wèn)題可以加以控製。三是隻采用氬氣的(de)情況,隻采用氬氣也可以(yǐ)實現表麵改性,但是效果相(xiàng)對較低。此種情況(kuàng)較特殊,是少數工業客戶需要有限度的同時均(jun1)勻的表麵改性時采用的方案。

大氣壓式等離子,也是低溫等離子,不會對材料表麵造(zào)成損傷。無電弧,無需真空腔體,也無需有害氣體吸出係統,長時間使用並不會對操作人員造成身體損害。

 

等離子應用在清洗機行(háng)業,主要分為兩大類,一類是常壓的,或者做大氣等離子清洗機,就(jiù)是在平時正常環境下麵直接使(shǐ)用的。另外一種是真空等離子清洗機,這個是需要在真空環境下麵使用(yòng)的。常壓(yā)的等離子清洗機,主要(yào)是用來處理一(yī)些平麵立體的物體,比如手機玻璃板,而真空等離(lí)子清洗機則是用來處理一些異形件,或者對處理要(yào)求比較高的物體。比如汽車連接件,這些物體直接用常壓等(děng)離子清洗(xǐ)機,直接噴射處理肯定不到位,這個時候就需要用到真空等離子清洗機

等(děng)離子處理為什麽需要真空(kōng)環境?

在真空環境產生等離子體的原因很多,主要有有兩個(gè)原因:

引入真空室的氣(qì)體在壓力環(huán)境下不會電離,在充入氣體電離產生等離子體之前必(bì)須達到真空環境。另外,真空環境允許(xǔ)7799天天看影视控製真空室中氣體種類,控製真空室中氣體種類對等離(lí)子處(chù)理(lǐ)體過程的可(kě)重複性是(shì)至關重要(yào)的(de)。

 

要進行等離子處理產品(pǐn),首先7799天天看影视產生等離子體。首先,單一氣(qì)體或者混合氣體被引入密封的低(dī)壓真空等離子體室(shì)。隨後(hòu)這些(xiē)氣(qì)體被兩個電極板之(zhī)間產生的(de)射(shè)頻(RF) 激活,這些氣體中被激活的離子加(jiā)速,開始震動。這種振動“用力擦洗”需要清洗材料表麵的汙染物。

在處理過程中,等離子體中被激活(huó)的分子和原子會發出紫外光,從而產生等(děng)離(lí)子體輝光。溫度控製係統常用於控製(zhì)刻蝕速率。60 - 9d攝氏度溫度之間刻(kè)蝕,是室溫刻(kè)蝕速度(dù)的四倍。對(duì)溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻(kè)溫度可以控製在15攝氏度。7799天天看影视所有的溫度控製係(xì)統已經預編程(chéng)並集成到等離子體係統的軟件中間。設置保存每個等(děng)離子處理的程序能輕鬆複製處理過程。

 

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