等離子清洗機裏麵各種氣體的清洗作用

因為等離子清洗處理的材料不一樣，要求也不（bú）同，對於處理每一種工藝，都會選擇對應的氣體，並且根據清洗的程度（dù），調整輸（shū）入氣體的比例，清洗的停留（liú）時間等參數。目前等離子清（qīng）洗機裏麵常用的氣體有空氣、氧氣、氬氣、氫氣、氬氫混合氣體、cf4等。每一種氣體（tǐ）的特性（xìng）都不一樣，清洗（xǐ）帶來的效果也不相同。有的還會選用混合氣體，即把多種（zhǒng）氣體混合在一起使用，以達（dá）到最好的清洗效果（guǒ）。

那這些清洗工藝氣體（tǐ）都是怎麽配比的呢？這個其實是很大（dà）公司的秘密，每個公司都會有自己的一套清（qīng）洗工藝，然後去調整測試（shì）的，今天我給大家講的是各種氣體的特性，讓大家（jiā）對於（yú）等離子清洗機的各種氣體有一個了解。

氫氣（qì）的主要作用是用來的金（jīn）屬表麵的氧化物做（zuò）清理，其清洗的過程其實是化學還原反應，氫氣離（lí）子和（hé）金屬（shǔ）表麵的氧氣離子化學反應變成水氣（qì）。

氧氣離子是用來清洗（xǐ）材料表麵的有機化合（hé）物，通過對（duì）有機化合物的氧（yǎng）化發生反應達到清洗的目的。氬、氦（hài）、氮等非反應氣體（tǐ）。氮處理可提高材料的硬度和耐磨性（xìng）。氬和氦氣體特性平穩，分子的充放電工作電壓低非常容易產生亞穩態分子，一方麵，運用其（qí）高能粒子的物理（lǐ）學（xué）功效來清理易被氧化或還（hái）原物件。

Ar+轟擊汙物產生揮發物（wù）化學物質汙染物會從真（zhēn）空泵抽離出來，以防止表層化學物質的反應。氬非常容易產（chǎn）生亞穩態分子，與氧原子撞擊時產生正電（diàn）荷變換和再重組。在plasma清洗設備中（zhōng）應用純氫是效率很高的，但考慮到了充（chōng）放電的可靠性和安全係數，在等離子清洗設備（bèi）中也可以應用氬氫化合物（wù）。此外（wài），還可以采（cǎi）用反向（xiàng）氧氣和氬氫氣的清洗順序，這種清洗機具有（yǒu）易氧化、易還原的（de）特點。

1)氬氣：物理學轟（hōng）擊表麵是氬氣清理的原理。氬是有效的（de）物理學plasma清理（lǐ）氣體（tǐ），因為（wéi）它（tā）的原子大小，能用非常大的（de）能量打中產品表層。正氬正離子會被負極（jí）板吸（xī）引住，撞擊力得以除去表層的一切汙漬。隨（suí）後這種氣體汙染物會（huì）隨（suí）著泵排（pái）出。

2)氧氣（qì）：與產品表層化（huà）學物質是有機化學反應。比如，氧能夠合（hé）理地（dì）除（chú）去有機化學汙染物，與汙染（rǎn）物產生反（fǎn）應，形成二氧化（huà）碳、一氧化碳和水。一般來說，化學反應很容易除去有（yǒu）機汙染物。

3)氫（qīng）氣：氫可用以除去金屬表（biǎo）層氧化物。它常常與氬混合以（yǐ）提升去汙能力。大家廣泛關心氫的易（yì）燃性（xìng）性和氫氣儲存使用問題，7799天天看影视可以用氫產生器從水裏造成氫（qīng）。除去潛（qián）在性的傷（shāng）害。

4)cf4/sf6：氟化氣（qì）體主要（yào）是用來線路板上麵的，通過化學反應將氧化物轉換（huàn）為氯化物，用在半導體材料和pcb（印刷線路（lù）板）等工業生（shēng）產