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等離(lí)子清洗機
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首頁 新聞資訊 等離子體百科 氬氣真空等離(lí)子清洗機的原理,等離子處(chù)理為(wéi)什麽需要(yào)真空環境(jìng)?

氬(yà)氣真空等離子清洗機的原理,等離子(zǐ)處理為什(shí)麽(me)...

氬氣是一種工業上麵常用的氣體,不僅用於清(qīng)洗,也用於電焊或者金屬切割,在等離子清洗中主要被應用於基材表麵的物理清洗及(jí)表麵粗化(huà),最大的特點就是在表麵清洗中不會造成精密電子器件的表麵氧化。正因如此,氬等(děng)離子清洗機在半導體、微電子、晶圓製造等行業(yè)被廣(guǎng)泛應用。

 

氬氣在真空等離子清洗(xǐ)機中被電離所產生的等離子體呈暗紅色。所以大家平時所見的真(zhēn)空等離子清洗機,機器啟動時,真空腔室裏麵都是顯(xiǎn)示的暗紅色,表示真空等離子正在產生反應(yīng)。

 真空等離子清(qīng)洗機

在相同的放電環境下,氫氣和氮氣所產生的等離子體顏色都是呈紅色,但氬等離子體的亮度會低於氮氣且高於氫氣,還是比較好區分的。

 

在晶(jīng)圓、玻璃等產品表麵顆粒的清除過程中(zhōng),通常會采用等離(lí)子體對材料表(biǎo)麵的顆粒進(jìn)行轟擊,加以實現對顆粒的分(fèn)散和鬆動處理,然後再進行離心清洗等處理工藝(yì),會有著顯著的效果。在(zài)半導體封裝應用中尤為突出,在經過打線工藝(yì)後為(wéi)防止導(dǎo)線氧化,需采用氬等離子體或氬氫等離子對產品表麵進行等離子(zǐ)清洗(xǐ),實現更好的產品處理效果。

 

 

等離子清洗機的表麵粗化(huà)處理也稱為表麵刻蝕(shí)處理,其主要目的是提升材(cái)料的表麵粗糙度,進而增強(qiáng)材料的粘接、印刷和焊接等性能。其他活性(xìng)氣體經處理後也可提升產品(pǐn)表麵張力,但氬離子化產生的顆粒要更重,在電場的作(zuò)用(yòng)下氬離子的動能較高於其(qí)他活性氣(qì)體,所以其粗化效果更號。氬氣在無(wú)機物表麵粗化的過程中應用最為廣泛,如玻璃基材的表麵處理、金屬基材(cái)的表麵處理等。

 

大氣壓等離子有三種(zhǒng)效果模式可選。一是選用 氬氣/氧氣 組合,主要麵向非金屬材料並且要求較高的處理效果時采用。 二是選用 氬氣(qì)/氮(dàn)氣(qì) 組合(hé),主要麵向待處理產品有不能被(bèi)處理的(de)金屬區域,因氧氣的強氧化(huà)作用,替換為此方案中的氮氣後,該問(wèn)題可以加以控製。三是隻采用氬氣的情況,隻采用氬氣也可以實現表麵改性,但是效果相對較低。此種情況較特殊,是(shì)少數工業客戶需要有限度的同時均勻的表麵改(gǎi)性時采(cǎi)用的方案。

大氣壓(yā)式等(děng)離(lí)子(zǐ),也是低溫等離子,不(bú)會對(duì)材料表麵造成損傷。無電弧,無需真空腔體,也無(wú)需有害氣體(tǐ)吸出係統,長時間使用並不會對操作人員造成身體損(sǔn)害。

 

等離子應用在清洗機行業,主要分(fèn)為兩(liǎng)大類,一類是常壓(yā)的,或者做大氣等(děng)離子清洗機,就是在平(píng)時(shí)正常環(huán)境(jìng)下麵直接使用的。另外一(yī)種是真空等離子清洗機,這個是需要在真空(kōng)環境下麵使用的。常壓的等離子(zǐ)清洗機,主要是用來處理一些平麵立體的物體,比如手機(jī)玻璃板,而真空等離子清洗機則是用來處理一些異形件,或者對(duì)處理要求比較高的物體。比如汽車連接件,這些物體直接用常壓(yā)等離子(zǐ)清洗機,直接噴射處理肯定不到位,這(zhè)個時候就需要用(yòng)到真空等離子清(qīng)洗機

等離子處(chù)理為什麽需要真空環境?

在真(zhēn)空環境產生等離子體的原因很多,主要有有兩(liǎng)個原因:

引入真空室的氣體在壓力環境下不會電離,在充入(rù)氣體電(diàn)離產生(shēng)等離子體之前必須達到真空環(huán)境。另外,真空環(huán)境允許7799天天看影视控(kòng)製真空室中氣體種類,控製真空室中氣體種類對等離子處理體過程的可重複性是至關重要(yào)的。

 

要進(jìn)行等離子(zǐ)處理產品(pǐn),首先7799天天看影视(men)產生等離子體。首先,單一氣體或者混合氣體(tǐ)被引入密封的低壓真空(kōng)等離子體室。隨後這些氣體被兩個電極板之間產生的射頻(RF) 激活,這些(xiē)氣體中(zhōng)被激(jī)活(huó)的離子加速,開始震動。這種振動(dòng)“用力擦洗”需(xū)要清洗材料表麵的(de)汙染物。

在處理過程中,等離子(zǐ)體中被激活的分子和原子會發出紫(zǐ)外光,從而產生等離子(zǐ)體輝光。溫度控製係統常用於控製刻蝕速率。60 - 9d攝氏(shì)度溫(wēn)度之間刻蝕,是室(shì)溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子(zǐ)體蝕刻溫度可(kě)以控(kòng)製(zhì)在15攝氏度。7799天天看影视(men)所有的溫度(dù)控製係統已經預編程並集(jí)成(chéng)到等離子體係統的軟件(jiàn)中間。設(shè)置保存每(měi)個等離子處理的程序能輕鬆複製處理過(guò)程。

 

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