氬氣真空等離子清洗（xǐ）機的（de）原理，等離（lí）子處理為（wéi）什麽...

氬氣是一種工（gōng）業上麵常（cháng）用的氣（qì）體，不僅用於清洗，也用於電焊或者金屬切割，在等（děng）離子清洗中主要被應用於基材（cái）表麵的物理清洗及表麵粗化，最大的特點就是在表麵清洗中不會造成精（jīng）密電子器件的表麵氧化。正因如此，氬等離子清洗（xǐ）機在半導體（tǐ）、微電子、晶圓製（zhì）造等行業被廣泛應用。

氬氣在真（zhēn）空等離子清洗機中被電離所產生的等離子體呈暗紅色。所以大家（jiā）平時所見的真（zhēn）空等離子清（qīng）洗（xǐ）機，機器啟動時，真空腔室裏麵都（dōu）是顯示的暗紅色，表示真（zhēn）空等離子正在產生反應。

在相同的放電環境下，氫氣和氮（dàn）氣所產生的等離子體顏色都（dōu）是（shì）呈紅色，但氬等離（lí）子體的亮度會低於氮（dàn）氣且高於氫氣，還是比較好區分（fèn）的。

在晶圓（yuán）、玻璃等產（chǎn）品表麵顆粒的（de）清除過程中，通常會（huì）采用等離子體對材料表麵的顆粒進行轟擊，加以實現對顆粒的（de）分散和（hé）鬆動處理，然後再進行離心清洗等處理工藝（yì），會（huì）有著顯著的效果。在半（bàn）導體封裝應用（yòng）中尤為突出，在經過打線工藝後為防止導線氧化，需（xū）采用氬等離子體或氬氫等離（lí）子（zǐ）對產品（pǐn）表麵進行等離子清洗，實現更好的產品處理效果。

等離子清洗機的表麵粗化處理也稱（chēng）為表麵刻蝕處理，其主要目的是提升材料的表麵粗糙度，進而增強材料的粘接、印刷（shuā）和焊接（jiē）等性能。其他活性氣體（tǐ）經處理後也可（kě）提升產品表麵張力，但氬離子化產生的（de）顆粒要更重，在電場的作用下氬離子的動能較高於其他活性氣體，所以其粗化效果更號。氬（yà）氣在（zài）無機物表（biǎo）麵粗化的過程中應用最為廣泛，如玻璃基（jī）材的表麵處理、金屬基材的表麵處理（lǐ）等。

大氣壓（yā）等離子有三種效果模式可選。一是選用 氬氣/氧氣 組合，主要麵向非金屬材料並且要求較（jiào）高的處理效果時采用。 二是選用 氬氣/氮氣 組合，主（zhǔ）要麵向待處理產品有不能被處理的金屬區域，因氧氣的強氧化作用，替換為此方案中的氮氣後，該問題（tí）可以加以控製（zhì）。三是隻采用氬氣的情況，隻（zhī）采用氬氣也可以（yǐ）實（shí）現表麵改（gǎi）性，但（dàn）是效（xiào）果相對（duì）較低。此種（zhǒng）情況較特殊，是少數工業客戶需要（yào）有限度的同時均（jun1）勻的表麵改（gǎi）性時（shí）采用的方（fāng）案。

大氣壓（yā）式等離子，也是低溫等離子，不會對材料表麵造成損傷。無電弧，無需真空腔體，也無需有害氣體吸出係統（tǒng），長（zhǎng）時間使用（yòng）並不會對操作人員造成身體損害。

等離子應用在清洗機行業，主要分為兩（liǎng）大類，一類是常壓的，或者做（zuò）大氣等離（lí）子（zǐ）清（qīng）洗（xǐ）機，就是（shì）在平時正常環境下麵直接使用的。另外一種是真空等離子清洗機（jī），這個是需要在真空環（huán）境下麵使用（yòng）的。常壓的等離子清洗機，主要（yào）是用來（lái）處理一些（xiē）平麵立體的（de）物體（tǐ），比如手機玻璃板，而真空等（děng）離子清洗機則（zé）是用（yòng）來處理一（yī）些異形（xíng）件（jiàn），或者對處（chù）理（lǐ）要求比較高的物體。比（bǐ）如（rú）汽車連接件，這些物體直接用常壓等離子清洗機，直接噴射處理肯定不到位，這個時候就需要用（yòng）到真空等離子清洗機

等離子處理為什（shí）麽需要真空環境?

在真空環境產生等（děng）離（lí）子體的原因很多,主要有有兩個（gè）原因:

引入真（zhēn）空室的氣體在壓力環境（jìng）下不會（huì）電離,在充入（rù）氣體電離產生等離（lí）子體之前必須達（dá）到真空環境。另外，真空（kōng）環境允許7799天天看影视控製真空室中氣體種類，控（kòng）製真空室中氣體種類對等（děng）離子（zǐ）處（chù）理體過程的可重複性是至關重要的。

要進（jìn）行等離子處理產品,首先7799天天看影视產生（shēng）等離子體。首先，單（dān）一氣體或者混合氣體被（bèi）引入密（mì）封的（de）低壓真空等離子體室（shì）。隨後這些氣體被兩個電極板之間產生的射頻(RF) 激（jī）活，這些氣體中被激活的離子加速，開始震（zhèn）動。這種振動“用力擦洗”需要清洗材料表麵的汙染物。

在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發出紫外光，從而產生（shēng）等離子體輝光。溫度控製係統常用於控製（zhì）刻蝕速率。60 - 9d攝氏度溫度之間刻（kè）蝕，是室溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控製在（zài）15攝氏（shì）度。7799天天看影视所有（yǒu）的溫度控製係統已經預編程並集成到（dào）等離子（zǐ）體係統的軟件中（zhōng）間。設置保存每個等離子處理的程序能（néng）輕鬆複製處理過程。