等離（lí）子清洗機中頻、射頻、微波電源的區別（bié）！

等離子（zǐ）清洗機常（cháng）見電源的頻率有3種，40KHz，13.56MHz，2.45GHz，也就是平（píng）時大家（jiā）據說的中（zhōng）頻、射頻、微波。3種頻（pín）率的電源各有其優勢，各有各（gè）的頻率，今（jīn）天我給（gěi）大家普及（jí）一些關於等（děng）離子清洗機電源（yuán）關於（yú）頻（pín）率方麵（miàn）的知識（shí）

40KHz的（de）電源就是大家平時所稱的（de）中頻電（diàn）源，簡單（dān）的來說就是能量（liàng）高，但是等離子的密度較（jiào）低。中頻電源在真空（kōng）等離子清洗上被選用的（de）基本（běn）上是真空腔（qiāng）體體積較大（一般大於（yú）100L，電極板數量較多，因為相對於射（shè）頻中頻在大功率電源比如5000W、10KW、20KW本身性能更穩（wěn）定、對於產生的等離子體中分子、離子獲得的動能更大、滲透性更好、偏重利用物理反應

此外（wài）由於中頻電源直接輸出到電極板的電壓較高，其自偏壓較高，產生的負（fù）自偏壓引起（qǐ）了正離子的功率吸收（shōu），這也會直接引（yǐn）起電極板的溫度升高；同時由於在這過程中，離子會吸（xī）收部分的功率，因此用於電離的電（diàn）子的功率吸收就與相應的減少了，從（cóng）而造成等（děng）離子體密度的較低和離子的能量較高，工藝處理（lǐ）溫度也會稍高。

射（shè）頻電源的功率（lǜ）都比較低，在真空等離子清（qīng）洗機上被選用的基（jī）本上是真空腔體體積較小的設備，相對於中頻來說因為它頻率（lǜ）高、雖然分子、離子獲得（dé）的動（dòng）能沒有中頻的高，但是能量的密度高，就處理效率來講還是明顯優於中（zhōng）頻而且其物理反應和化學反應都表現很好

射頻等離子清洗機在（zài）射頻客性耦合方式的放電過程中，電極板產生（shēng）的自偏壓（yā）受到放（fàng）電氣壓的影響，自偏壓較小，電子的功率吸（xī）收主要來自於與電極板表麵（miàn）的振蕩鞘（qiào）層相互作用。因此（cǐ），射頻等離子清洗設備的（de）激發頻率越高（gāo）電子的功率（lǜ）吸收也（yě）會相對越高，相應的離（lí）子轟（hōng）擊的能量就會降低（dī）。

而說到微波等離子清洗機放電，這種（zhǒng）清洗沒有自（zì）偏壓（yā），離子濃（nóng）度高，離子能量低，主要有兩種方式，即表麵波型和電（diàn）子回旋共振型，前（qián）者一般用於商業清洗（xǐ），是通過輻射微波電磁場直接將氣體擊穿實現放電，其中並沒有離子的加速作用，其（qí）電子密度較高，但通常要求放電氣壓高，從而會（huì）引起等離子（zǐ）體局域化比較嚴重的情況，不利（lì）於縱深（shēn）清洗和（hé）多層麵的大尺（chǐ）度的清洗處理（lǐ），此外，微波等離子清洗（xǐ）機也不（bú）適合對一些精密的電子元器件進行處理。現在微波式的等離子目前真空腔（qiāng）體的體積做不大（dà），技（jì）術還不（bú）夠成熟一般隻能做到幾升的容（róng）積，用於試驗室內）