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plasma等離子清洗
plasma等離子清洗就是7799天天看影视常說的等離子清洗技術，等離子清洗的應用（yòng），起源於 20 世紀初（chū），隨著（zhe）高科技（jì）產業的快速發展，其應用愈（yù）來愈廣，目前已在眾多高科（kē）技（jì）領域中，居於（yú）關鍵技（jì）術的地（dì）位。等離子清洗技術對產業經（jīng）濟和人類文明影響（xiǎng）最大（dà），首推電子資訊工業，尤（yóu）其是半導體業與光（guāng）電工業。等離子清洗已應用於各（gè）種電子元（yuán）件的製造，可以確信，沒有等離子清洗技術，就沒有今日這麽發達的電子、資（zī）訊和通訊產業（yè）。此外，等（děng）離子清洗技術也應用在光（guāng）學工業、機械與航天工業、高分子工業、汙染防治工業和量測工（gōng）業上，而且是產品提升的關鍵技術。比（bǐ）如說光學元件的鍍膜、延長模具或加工工（gōng）具壽命的抗（kàng）磨耗層、複合材料的中間 層、織（zhī）布或隱型鏡片的表麵處理、微感測器的製造，超微機械的加工技術（shù）、人工關節、骨（gǔ）骼或心（xīn） 髒（zāng）瓣（bàn）膜的抗磨耗層等皆需（xū）等離子技術的進步，才能開（kāi）發完成。
等離子技術是（shì）一（yī）新興的領域，該領域結合等（děng）離子（zǐ）物理、等離子化（huà）學和（hé）氣固相界（jiè）麵的化學反應，此為典型的高科技行業，需跨多種領域，包（bāo）括化工、 材料和電機，因此（cǐ）將極具挑戰（zhàn）性，也充滿機會。 由於（yú）半導體（tǐ）和光電材料（liào）在未來的（de）快速成長，此方麵應用需（xū）求將（jiāng）越來越大。
等（děng）離子（zǐ）體與物體表麵的作用
在（zài）等離子體中除了（le）氣體分子、離子和電子外， 還存（cún）在受到能量（liàng）激勵狀態的電中性的（de）原子或原（yuán）子團 （又稱自（zì）由基），以及等離（lí）子體發射出的光線。其 中波的長短、能量的高（gāo）低在等離子體與物質表（biǎo）麵相 互作用時有著重要作用。
原子團等自由基與物體表麵的反應 由於這些自由（yóu）基呈電重型，存在壽命（mìng）較長（zhǎng），而 且在等離子體中的數量多於離子，因此自由基在等 離子（zǐ）體中發揮著重要作用。自由基的作用主要表現 在化（huà）學（xué）反應過程中能量傳遞的“活化”作用，處 於激發（fā）狀（zhuàng）態的自由基具有較高的能量（liàng），因此（cǐ）易於與 物體表麵分子結合時會形成新（xīn）的自由基，新形成的 自由基同樣處於不穩定的高能量狀態，很可能發生 分解反應，在變成（chéng）較小（xiǎo）分子同（tóng）時生成新的自由基， 這（zhè）種反應過程還可能繼續進行下去（qù），最後分（fèn）解成 水、二氧化（huà）碳（tàn）之類的簡單分子。在另一些情況下， 自由基與物體表麵分子結合的同時，會釋放出大量 的結合能，這種能量又成為引發新的表麵反應推動 力，從而引發（fā）物體表麵上的物質發（fā）生化（huà）學反應而被 去除。
電子與物體表麵的（de）作用
一方麵電子對物體表麵的撞擊作用，可促使（shǐ）吸 附（fù）在物體表麵的氣體分子發生分解（jiě）或解（jiě）吸，另一方 麵大量的電子（zǐ）撞（zhuàng）擊有利引發化學反應。由於電子質（zhì） 量極小，因此比離子的移動速度要快得多。當進 行等離子體處理時，電子要比離子更早（zǎo）到達物體表 麵，並使表麵帶有負電荷，這有利於引發進一步 反應。
離子與物（wù）體表（biǎo）麵的作用
通常指的是帶正電荷的陽離子的（de）作用，陽離子 有（yǒu）加速衝向帶（dài）負電荷表麵的傾向，此時使物（wù）體表麵 獲得相當大的動能，足以撞擊去除表（biǎo）麵上附（fù）著的顆 粒性物（wù）質，7799天天看影视把這種（zhǒng）現象稱為濺（jiàn）射現象。而通 過離子的衝（chōng）擊作用可極大促（cù）進物體表麵化學反應發 生的幾率。
紫外線與物體表麵的反應
紫外線具有很（hěn）強的光能，可（kě）使附著在物體表麵 物質的分子（zǐ）健（jiàn）發生斷裂而分（fèn）解，而且紫外線具有很 強的穿透能力，可透過（guò）物體（tǐ）的表層深入（rù）達數微（wēi）米而（ér）產（chǎn）生作用。
綜上所述，可知等離子清（qīng）洗機是利用等離子體內的各種具有高（gāo）能量的物質的活化作用，將附著在物體表麵的汙垢徹底剝離去除。
