等離子體清洗機

等離子體清洗采用氣體作為清洗介質, 不存在使用液體清洗介質對被清洗物帶（dài）來的（de）二次（cì）汙染（rǎn）。等離子體清洗機工作時真空清洗腔中的等離子（zǐ）體輕（qīng）柔衝刷被清洗物的表麵, 短（duǎn）時間的清（qīng）洗就可以使汙染物被徹底地清洗掉, 同時汙染物被（bèi）真空泵抽走, 其清洗程度可達到分子級。

等離子體是由Sir William Crookes在1879年發現的。而等離子體清洗機應用於工業, 源於20世紀初。並且隨著等離子體物理研究的深入, 其應用越（yuè）來（lái）越廣（guǎng）, 目（mù）前已在眾多高科技領域中, 居於關鍵（jiàn）技術的地位。等離（lí）子清洗技術對（duì）產業經濟和（hé）人類文明影響（xiǎng）最大的, 首推電子資訊工業（yè）, 尤其是半導體業與光電工業。

目前已廣泛應用的物理化學清洗方法, 大致可分為兩類:濕法（fǎ）清洗和幹法清洗。幹法清洗中（zhōng）發展較快（kuài）、優勢明顯的是等離（lí）子體清洗, 等離子體清洗已逐步在半導體製造、微電子封裝、精密（mì）機械等行業開始普遍應用。濕法清洗（xǐ）要大量使用酸堿等化學物質, 而且清洗後產生大量的廢氣、廢液（yè）。當然濕法清洗目前在清洗工藝中還占據主導地位。但是（shì）從對環境的（de）影響、原材料的消耗來看, 幹法清洗要（yào）明顯優於（yú）濕法（fǎ）清洗, 更應是未來清洗方法的發展方向。

我司從事等離子（zǐ）體清洗行業已經二十年，是國內最早一批從事真空及大氣低溫等（děng）離子體（tǐ）（電漿）技術（shù）、射頻及微波等離子（zǐ）體技術研發、生產、銷售於（yú）一體的國家高新技術企業，隸屬於東信高科等（děng）離子科技（香港）控股有限公司，總部設於香港 。公司目前生產的等離子清洗（xǐ）設備有，大氣等離子體清洗機，真空等離子（zǐ）體清（qīng）洗機，線性（xìng）輝光等離子體清洗（xǐ）機，FPC/PCB 等（děng）離子刻蝕機。產品廣泛應用於微波印製電路、FPC、觸摸屏（píng）、LED、wire$DieBonding、醫療行業、培養皿處理、材料表麵（miàn）改性及活化等領域（yù）。歡迎廣大（dà）新老客戶致電谘詢。