等離子清（qīng）洗機常見頻率的區別與應（yīng）用

隨著等離子（zǐ）體科學基礎研究的需要以及（jí）對可靠等（děng）離子體處理係統日益（yì）增長的工業需求，等離子體源（yuán）從（cóng）19世紀的氣體放電裝置（zhì）逐漸演變為現代（dài）先進的生產設備（bèi）。通過直流、射頻和微波電場（chǎng）電離氣體（tǐ）的方法均可用來製造（zào）等離子體源。下麵為（wéi）大家介（jiè）紹等離子清洗機常見的幾種激發等離子體的頻率：

常用的（de）等離子清洗機激發頻率有（yǒu）三種：激發頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波（bō）等離子體。 不（bú）同等離子體產生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏（piān）壓為1000V左（zuǒ）右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微（wēi）波等離子體的自偏壓很（hěn）低，隻有幾十伏，而（ér）且三種等（děng）離子體的機製（zhì）不（bú）同。

超聲等（děng）離子體發生的（de）反應為物理反應（yīng），射頻等離子體發生的（de）反應既有物理反應又有化學反應，微波等離（lí）子體發生的反應為化學（xué）反應。超聲等離子體清洗對（duì）被清潔表麵產生的影響最大，因而實（shí）際半導（dǎo）體生產應用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等（děng）離（lí）子體清洗。而超聲等離子則應用於表麵除膠、毛刺打磨等處理方麵效果最佳，典（diǎn）型的等離子體物理清洗工藝是在（zài）反應腔體中加入（rù）氬氣（qì）作（zuò）為輔助處理的等（děng）離子體清洗；氬（yà）氣本（běn）身是惰性氣體，等（děng）離子體的（de）氬氣不和表麵發生反應，而是通過（guò）離（lí）子轟擊使表麵清潔。

典型（xíng）的等離子體化學清洗工藝是（shì）氧（yǎng）氣等離子體清洗。通過等離子體產生的氧自由基非常活潑，容易與碳氫化合物發生反應，產（chǎn）生二氧化（huà）碳、一氧化碳（tàn）和水等易揮發物，從而去除表麵的汙（wū）染物。 以物（wù）理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐（fǔ）蝕（SPE）或離子銑（IM），其優點在於本身不發生（shēng）化學（xué）反應，清潔表麵不會留下任何的氧化物，可以保持（chí）被清洗（xǐ）物的化學純淨性，還有一種等離子體清洗是表麵反（fǎn）應機製中物理反應和化學反應都起重（chóng）要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束（shù）腐蝕，兩種清洗可以互相促進，離子轟擊使被清（qīng）洗表麵產生損傷削弱其化學鍵或者形成原子態，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易（yì）產生反應；選用40KHZ超聲等離子（zǐ）再加入（rù）適當（dāng）的反應（yīng）氣體，可以有效去除膠質殘渣、金屬毛（máo）刺等等，2.45G的微波等離子常（cháng）用於科研方麵（miàn）及實驗室。