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金屬等離子清洗機，金屬等離子表麵處理
等離子（zǐ）清洗機（jī）利（lì）用等離子體中高能粒子和活性粒子，通過轟擊或活化反應作用達到將金（jīn）屬表麵汙物去（qù）除的目的。等（děng）離子體清洗的過程中不使用化學試劑，所（suǒ）以不會造成（chéng）二次汙染，清洗設（shè）備可重複性強，所以設備的運行成本比較低，而且操作靈活簡（jiǎn）單，可以實現對金屬表（biǎo）麵的整體或某些局部及複雜結構的清洗；有些經過等離子體清（qīng）洗後的表麵性能還可以得到改善，有助於金屬的後續加工應用（yòng）。等離子體清（qīng）洗的機理
等離子（zǐ）體中處理存在著大量的氣體分子、電子和離（lí）子外，還存在大（dà）量受激發的中性（xìng）原（yuán）子、原子（zǐ）團自由基（jī）及等離子體射出的光線。等離子體清洗是利用離子、電子、受激原子、自（zì）由基（jī）及其射出的光線與被清洗表麵的汙染物分子分別發生活化反應而最（zuì）終將汙（wū）染物清除的過程。電（diàn）子在金屬表麵清洗過程中的作用（yòng）
在等離子體中，電子與原子或分子之間的碰撞（zhuàng），可以產生激（jī）發態中性原子或原子（zǐ）團（又稱自由基），這些激（jī）發態原子或自由基與（yǔ）汙染物分子（zǐ）發（fā）生活化反應而使汙染物（wù）脫（tuō）離金屬表麵。當電子輸運到表麵清洗區域時，與（yǔ）清洗表麵吸附的汙（wū）染物分子發生碰撞，會促使汙染（rǎn）物分子發生分解而產生活性自由基，這會（huì）有利於（yú）引發汙染物分（fèn）子的進一步活化反應；而且，質量很小的電子比（bǐ）離子運動要快得多，因此電子要比（bǐ）離子更早到達物體表麵，並使表麵帶有負電荷，從而有利（lì）於引發進一步活化反應。離子在金屬表麵清（qīng）洗過程中的作（zuò）用
一方麵是陽離子被附（fù）有負電荷的物（wù）體表麵所加速獲得很大（dà）的動能，發生純物理碰撞，可以使得附著在物體表麵的汙（wū）物被剝離；另一方麵，陽離子的撞擊作用還可以增加物體表麵汙染物分子發生活化反應的幾（jǐ）率。自由基在金屬表（biǎo）麵（miàn）清洗過程中的作用
一般情況下，等離子體中自由基的存（cún）在數量比（bǐ）離子多，呈現電中性，壽命比較長，且具有大的（de）能量比較高。在清洗過程中，表麵（miàn）的（de）汙染物（wù）分子很容易與高（gāo）能的（de）自由基相結合而產生新的自由（yóu）基，這些新的自由基也居於高能狀態，極不穩定，很容易自身分解而轉變為較小的分子，同時生成新的自由基，這種過程將持續不斷的進行（háng）下去，直至被分解成穩定的易揮發的簡（jiǎn）單小分子，最終使汙染物脫離金（jīn）屬表（biǎo）麵，在此過程中，自由基的主要作用表現在活化作用過程中的能量傳遞，在自由基與表麵汙物分（fèn）子相結合的過程中，會有（yǒu）大量的結合能釋放出來，被釋放出的能量作為推進表麵汙物分子發生新的活化反（fǎn）應的動力，有利於汙染物在等離（lí）子（zǐ）體的活化作用下更徹底地被清除掉。發射（shè）光（guāng）線在金屬（shǔ）表麵清洗過程中的作用
等離子體產生的同時（shí）會發射出光（guāng）線，它具有很高的能量且（qiě）穿透力很強（qiáng），金屬表麵汙物分子在光線的作用下，分子鍵斷裂而被分解，從而有利於推動黏附在金屬表麵上的汙染物分子發生進一步的活化反（fǎn）應。綜（zōng）上所述，等離子清洗機主要是憑借等離（lí）子體中的電子、離子、激發態原子及（jí）自由（yóu）基等活性離子的活化作用，將金屬（shǔ）表麵有機汙染物的大分子（zǐ）一步步分解而最終產生穩定（dìng）的易揮發的簡單小分子，終將（jiāng）黏著在表麵的汙（wū）物徹底脫離清（qīng）除。同時，經過等離子體清洗後的金屬表麵附著性能（néng）和表麵潤濕性可以極大程（chéng）度的被改善，而這些（xiē）性能的改善對金屬（shǔ）材料（liào）的進一步表麵處理也是非常有利的。隨著高科技產業（yè）的快速發展，等離子（zǐ）體清洗（xǐ）的（de）應（yīng）用越來越廣，目前已廣泛應用在電子工業、半導（dǎo）體（tǐ）行業和光電行業等高科技領域。
