等離子除油設備（bèi）原理解析

等（děng）離子體是部分電離的氣體，是物質常見的固體、液體、氣態以外的第四態。等離（lí）子體由電子、離（lí）子、自由基、光子以及其他中性粒子組成。由於等離子體中的電（diàn）子、離子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易（yì）與固體表麵發生反應。

等離子清洗機的（de）清洗機（jī）理，主要是依靠等離子體中活性粒子的（de）“活化作用”達到去除物體表麵汙漬的（de）目的。就反應機理來看（kàn），等離子體（tǐ）清洗通常包括以（yǐ）下過程：無機氣體（tǐ）被激發為等離子態；氣相（xiàng）物質（zhì）被吸附在固體表麵；被吸附基團與固體表麵分子反應生成產物分子；產物分子解（jiě）析（xī）形成氣相；反應（yīng）殘餘物脫離表麵（miàn）。 等離（lí）子體清洗技（jì）術的最大特點是不分處理對象的（de）基材類型，均可進行處理，對金屬、半（bàn）導體、氧化物和大多數高分子材（cái）料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟（fú）乙（yǐ）烯等都（dōu）能很好地處理，並可實現整體（tǐ）和局部以及複雜結構的清洗。 等離子體清洗還（hái）具（jù）有（yǒu）以下幾個特點：容易采用數（shù）控技術，自動化程度高；具有高精度的控（kòng）製裝置，時間控製的精度很高；正確的等離子體清洗不會在表（biǎo）麵產生損傷（shāng）層，表麵質量（liàng）得到（dào）保證；由於是在真空中（zhōng）進行（háng），不汙染環（huán）境，保證（zhèng）清洗（xǐ）表麵不被二次汙染。

下麵（miàn）以氧氣等離子體（tǐ）去除物體表麵油脂汙（wū）垢為（wéi）例，說明這些作用（yòng）：

從分析（xī）可以看出，等離子體對（duì）油脂汙垢的作用，類似於使油脂汙垢發生燃燒反應；但不同之處在於是（shì）在低溫情況下發生的“燃燒”。

在氧氣等離子體中的氧原子自由基，激發態的氧氣分子（zǐ），電子以及紫外線的共同（tóng）作用（yòng）下（xià），油脂分子最（zuì）終被氧（yǎng）化成水和二（èr）氧化碳分子，並從物體表麵被清除。

可（kě）以看出（chū），用等離子體清除（chú）油汙的過程是一個（gè）使有機大分子逐步降解的過程，最終形成的是水喝二氧化碳等小分子，這些小分子以氣態形式被排除。等（děng）離子清（qīng）洗（xǐ）的（de）另一個特點是（shì）在清（qīng）洗（xǐ）完成之後物體已被徹底幹燥。經過（guò）等（děng）離子體處理的物體表麵往往形成許多新的活性基團，使（shǐ）物體表（biǎo）麵發生“活化”而（ér）改變性能（néng），可以大大改善物體表麵的浸潤性能和黏著性能，這對許（xǔ）多材料是非常重要的。