等離子清（qīng）洗機常見頻率的區別與（yǔ）應用

隨著等離子體科學基礎研究的需要以及對可靠等離子體處理係統日益增長的工業需求（qiú），等離子體源從19世紀的氣體放電裝置逐漸（jiàn）演變（biàn）為現代先進的生產設備。通過直流、射頻和微波電場電離氣體的方法均可用來（lái）製造等離子體源。下（xià）麵為大家介紹等離子清洗機常見的幾種激發等離子體的頻率：

常（cháng）用的等離子清洗機激發頻率有三種：激發頻率為40kHz的（de）等（děng）離子體為超聲等離子（zǐ）體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子（zǐ）體，2.45GHz的等（děng）離子體為微波等離子體。 不同等離子（zǐ）體產生的自偏壓不一樣，超聲等離子體（tǐ）的自偏壓為（wéi）1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微（wēi）波等離子（zǐ）體的自偏壓很低，隻有幾十伏，而且（qiě）三種等離子體的機製不同。

超聲等離子體發生的（de）反應為物理反應，射頻等離子體發生的反（fǎn）應既有物理反應又有化學反應，微波（bō）等離子（zǐ）體發生的反應為（wéi）化學反應。超聲等離子體清洗（xǐ）對被清潔表麵產生的影響（xiǎng）最大，因而（ér）實際半導體生產應用中（zhōng）大多采用射頻等離子體清洗和微波等離（lí）子體清洗。而（ér）超聲等離子則應用於表麵除膠、毛刺打磨等處理方麵效果最佳（jiā），典型的等離子（zǐ）體物理清洗工藝是在反應腔體（tǐ）中加入氬氣作為輔助處理的（de）等離子（zǐ）體清洗；氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表麵（miàn）發生反應，而是通過離（lí）子轟擊（jī）使表麵清潔。

典型的等離子體化學清洗（xǐ）工藝（yì）是氧氣等離子（zǐ）體清洗。通過等離子（zǐ）體（tǐ）產生的氧（yǎng）自由基非（fēi）常（cháng）活潑，容易與碳（tàn）氫化合物發生反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水（shuǐ）等易揮發物，從而去除表麵的汙染物。 以物理反應為主的等離子體清洗，也叫（jiào）做（zuò）濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其（qí）優點在於本（běn）身不發（fā）生化學反應，清潔表麵不（bú）會留下任何的（de）氧化物，可以保（bǎo）持被清洗物的化學純淨（jìng）性，還有一種等離子體清洗是表麵反應機製中物理反應和化學（xué）反（fǎn）應都起重（chóng）要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕，兩種（zhǒng）清洗可以互相（xiàng）促進，離子轟擊使被清洗表麵產（chǎn）生損傷削弱其化學鍵或者形成原子態，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產生反（fǎn）應；選用40KHZ超（chāo）聲等（děng）離子再加入適當（dāng）的反應氣體，可以有效去除膠質殘渣、金屬毛刺等等，2.45G的微波等離子常（cháng）用於科研方麵及實驗室。