真（zhēn）空等（děng）離子表麵清洗機

真空等離子表麵（miàn）清洗機產品參（cān）數：

真空等（děng）離子表（biǎo）麵清洗（xǐ）機清洗原理：

在射頻等離子體放電（diàn）中，當等離子體中電子能量與此鍵能相當，則在（zài）等離（lí）子處理過程中電子（zǐ）對材料表麵轟擊很（hěn）可能使化學鍵產生斷裂或是（shì）與其發生（shēng）刻燭作用。材料表麵和外來的單體在等離子體作用下（xià）發生反應，並且由（yóu）於等離子相中電子、激發態原子分子、自由基、光子等粒子的存在，使得體係具有豐（fēng）富的化學活性。 除了電子的轟擊外，等離子體的能量可通過光福（fú）射、中性分子流和離子流作用於材料表麵。在等離子（zǐ）體係中（zhōng）的中性粒子將通過（guò）連續不斷地轟擊固體表麵將能量轉移給高分子（zǐ）材料。這些中性粒子的（de）能量具有四種形式：動能、振動能、離解能和激化能。動能和振動能隻對高分子材料起加熱作用，而自由基離解能則通常是通過（guò）引起材料表麵的各種化學反應而得到消散的，也（yě）可與表麵的自由基結合而使（shǐ）材料加熱。激化分子和原子是以（yǐ）與固體表麵碰（pèng）撞而達到消散（sàn）的。這些亞穩態（tài）分子（zǐ）和原子的能（néng）量通常（cháng）大於材料的離解能（néng），因（yīn）而在碰撞過（guò）程中會產生聚合物（wù）自由基，促使纖維表層（céng）產生刻燭、交換、接枝和共聚等反應（yīng）。

此外，由於材（cái）料在處理過程中，等離子體中的分子、原子和離子滲入到（dào）材（cái）料表層，使材料表麵的原子逸入等離子體中。這個過程可以達到常（cháng）規方法難以（yǐ）達到的化學和（hé）物理改（gǎi）性效果，它使表麵大分子鏈斷裂，呈微（wēi）觀不平的粗糖狀（zhuàng）態，為進一步改性（xìng）表麵性（xìng）質創造條件； 或在表麵（miàn）生成離子、自由基而改變材料表麵的親水性、滲透性、導電性以及分（fèn）子量（liàng）等。另外，聚合物表麵的結晶（jīng）相和無（wú）定形相的比例也可能發生變化。 一般認（rèn）為，在經過等離子體作用後，材料表麵主要發生（shēng）4種（zhǒng）物理化學變（biàn）化（huà）：

產生自由基：放點空間活性離子撞擊材料表麵使表麵分子化學鍵（jiàn）被打開從 而產生大分子自由基，使材料（liào）表麵具有活性。

表麵刻（kè）燭：使材料表麵變得粗糖（táng），增加材料（liào）比表麵積，是表麵形貌發生變化。

表麵交聯：將材料表（biǎo）麵的自由基之間重新結合，形成一（yī）層致密的網狀交聯 層。

引入極性基團：表麵（miàn）的自由基與等離子體放電區間的氧、氮等活性粒子結 合從而引（yǐn）入具有較強反應活性的極性基團。 這種物理化學變化的作用效（xiào）果由材料基體性質、等離子體氣相組成以及等（děng） 離子體激勵（lì）源（yuán）性（xìng）質共同決定。 存在於（yú）等離子體相中的主要（yào）是（shì）高能電子、離（lí）子和自由基等，通過其碰撞會引 起激發福射，所產生（shēng）的光子（zǐ）被認為是等離子體改性的重要組分（fèn）之一。這（zhè）些微粒通過（guò）與材料表麵的相（xiàng）互作用來改變材料原有的性質（zhì）。

真空等（děng）離子表麵清洗機特點：

與傳統表麵（miàn）處理方法相比, 真空等（děng）離子體表麵處理具有以（yǐ）下明顯優點：

(1) 處理溫度低, 處理時間（jiān）短, 節（jiē）約能耗, 可縮短工藝流程（chéng）;

(2) 處理過程中（zhōng）不（bú）使用酸堿等化工原料, 避免了高溫潮（cháo）濕的生（shēng）產環境;

(3) 處理深度僅為數百埃到（dào）幾納米, 不影響基體的固有性質;

(4) 處理過程屬於幹法處理, 可大幅降低水資源消（xiāo）耗, 對（duì）節約水資源有重要的社會經濟意義;

(5) 處理過程中無三廢排放, 既保護了環境, 又節約了企業的（de）治汙費用（yòng）, 符合國家的環保政策;

(6) 可采用（yòng）不同的氣體介質進行處理, 對材料（liào）最終的表麵化學（xué）結構和（hé）性質有較好的可控性。

真空等離子表麵清洗機售後服務：

保（bǎo）修1年，保修期內設備如出現故障（非人為損壞）乙方安排售後人員跟進處理，直至故障排除，（非工作時間及工作日除外（wài））質保期（qī）後，供應商免費提供技術谘詢（xún）及檢修費，隻收取（qǔ）相關成本（běn）費。