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等離子清洗機
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大型(xíng)等離子體清洗機(jī)TS-PL1...

產品(pǐn)型號:材料表麵清潔、活化、表(biǎo)麵改性

產品簡介: 大型真空等離子(zǐ)清洗機

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大型等離子體清洗(xǐ)機產品參數:

型號 真空等離子清洗機TS-PL1000L
外形尺寸                                                                                  W2000×D1600×H1730mm
真空腔體 W1050×D1000×H950mm
容(róng)量 1000L
真空係統 雙極真(zhēn)空泵組
等離子電(diàn)源 10KW連續調節
控(kòng)製方式 PLC+觸摸屏
工作電極 16套
真空度 10-100Pa
陶瓷封裝(zhuāng) 進口高頻陶瓷
額定功率 20KW
重量 1000Kg

等離子體清洗的機理:

就反應機理來看, 等離子體清洗通常包(bāo)括以下過程:無機(jī)氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附(fù)在固體(tǐ)表麵;被吸(xī)附基團與固體表麵分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘餘物脫離表麵。 典型的等離子體化學清洗工藝是(shì)氧氣等離子體清洗。下圖簡(jiǎn)單描述了等離子體清洗的機(jī)理, 主要是依靠等離子體中活性粒子的“活(huó)化作用”達到去除物體(tǐ)表麵汙漬的目的。通過等離子體產生的氧自由基非常活潑, 容(róng)易與碳氫化合物發生反應, 產生二氧化(huà)碳、一氧(yǎng)化(huà)碳(tàn)和水等易揮(huī)發(fā)物, 從而去除表麵的汙染物。

等離子體清洗的特點:

等離子體清洗采用氣體作為清洗介質, 不存在使用液體清洗介質對被清洗(xǐ)物帶來的二次(cì)汙染。等離子體清洗機(jī)工作時真空清洗腔中的等離子體輕柔衝刷被清洗物的表麵, 短(duǎn)時間的清洗就可以使汙染物被徹(chè)底地清洗掉, 同時汙染物被真(zhēn)空(kōng)泵抽走, 其清洗程度可達到分(fèn)子級。

等離子體清(qīng)洗技術的最(zuì)大特點是對(duì)幾乎所有的基材類型, 均可進行處理。對金屬、半導體、氧化(huà)物和(hé)大(dà)多數(shù)高分子材料, 如聚(jù)脂(zhī)、聚丙烯、聚酰亞(yà)胺、環氧樹脂、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理。而組成PCB材料的不外(wài)乎以上的幾種。而且等離子體清洗可實現(xiàn)整體和局部以及複雜結構的清洗, 所以對PCB的微切片任何形狀、結構(gòu)均可處理。 等離子體清洗(xǐ)還具有以下幾個特點:用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害;容易采用數字(zì)控製技術, 自動化程度高(gāo);整個工藝流(liú)程效率極高;具有高精度的控製裝置, 時間控製的精度很高;且正確的等離(lí)子體清洗不會在表麵產(chǎn)生損(sǔn)傷層, 表麵質(zhì)量得到(dào)保證;由於是在真(zhēn)空中進行, 不汙染環境(jìng), 保證清洗表麵不(bú)被二次汙染。

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