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等離子清洗與激光清洗有什麽區別與聯係
激光清（qīng）洗的原（yuán）理：
激光清洗是利用激（jī）光光束具有大的能量密度、方向可（kě）控和匯聚（jù）能力強等特性, 使汙染物與基體（tǐ）之間的結（jié）合力受到破壞或（huò）者使汙（wū）染物直接氣化等方式進（jìn）行脫汙, 降低汙染物（wù）與（yǔ）基體的結合強度, 進而達到清洗工件表麵的作用。激光清洗原理圖如圖1所示。當工件表麵（miàn）汙染物吸收激光的能量後, 其快速氣化或瞬間受熱膨脹後（hòu）克服汙染物與基體表（biǎo）麵之間的（de）作用力, 由於受熱能量升高, 汙染物粒子進行振動後（hòu）而從基（jī）體表麵脫（tuō）落。
圖1 激光（guāng）清洗原理圖
整個（gè）激光（guāng）清洗過程大致分為4個（gè）階段, 即激光氣化（huà）分解、激光剝離、汙染物粒子（zǐ）熱膨脹、基體表麵振動和汙染物脫離（lí）。當然（rán）, 在應用激（jī）光清洗技術時還要注意被清洗對象的激光清洗閾值, 選擇合適的激光波長, 進（jìn）而（ér）達到最佳的（de）清洗效果。激光（guāng）清洗能（néng）夠在不損傷基體表麵的前提下, 使基材表麵的晶粒結構和取向改變, 並且還能夠對基體表麵粗糙度進行控製, 從而增強基體表麵的綜合性。清洗效果主要（yào）受光束特性、基底與汙物材料的物性參數和汙物對光束能量的吸收能力等因素影響。
等離子清洗原理：
等離子體和（hé）固體（tǐ）、液體或氣體一樣（yàng），是物質的一種狀態（tài），也叫做物（wù）質的第四態。對氣體施加足夠的（de）能量使之（zhī）離化便成為等離子狀態。等離子體的"活性（xìng）"組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩（wěn）態）、光子（zǐ）等。等離子清洗就是通過利用這些活性組分（fèn）的性質（zhì）來處理樣品表麵，從而實現清潔、改性、光刻膠灰（huī）化（huà）等目的 。
等（děng）離子清洗原理圖
等離子體處理過（guò）程中,包括化學反應與物理反應兩種清洗過程。
化學過程：在化學等離子（zǐ）體過（guò）程中,自由激進分子與待清洗（xǐ） 物表麵的元素發（fā）生（shēng）化學反（fǎn）應（yīng）。這些反應後的產物（wù）是 非常小、易揮發（fā）的分子,它們可以用真空（kōng）泵抽出。在有機物清洗應用中,一般主要的（de）副（fù）產物包括（kuò）水（shuǐ）、一氧 化碳和二氧化碳。以化學反應為主的等離子體清洗,清（qīng）洗速度快、 選擇性好、對去除有機汙染物最為有效。缺點是會在 表麵產（chǎn）生氧化。典型的化學等離子體清洗是（shì）采用氧 氣等離（lí）子體。
物理過程：物理（lǐ）過程中,原子和離子以高能量、高速度轟（hōng）擊 待清洗物表麵,使分子分解,通過（guò）真（zhēn）空泵抽出。
等離子清洗與激光清（qīng）洗有什麽區別：
通過上述兩種清洗方式的原理7799天天看影视不難看出:激光清洗技術是指采用高能激光束照射工（gōng）件表麵,使表麵（miàn）的汙物、鏽斑或塗層發生瞬間蒸發或剝離,從而（ér）達到潔淨化的工藝過（guò）程。等離子清洗是利用等離子體中的活（huó）性物質與（yǔ）產品表麵發生物（wù）理或化學的（de）反應從而達到清洗的目的（de）。等離子清洗實際上清洗的效果隻是涉及產品的微觀表麵，清洗程度沒有激光清洗那麽強（qiáng）。等離子清洗更多的應用在材料的表（biǎo）麵改性上。
等（děng）離子清洗與激光清洗有什麽聯（lián）係：
首先7799天天看影视先來看一段關於激光清洗（xǐ）的描述“等離子體隻在能量密度高於閾值的情況下產生，這個閾值取決於被去除的汙染（rǎn）層或氧化層。這個閾值效應對在保證基底材料安全的情（qíng）況下進行有（yǒu）效清潔非（fēi）常重要。等（děng）離子體的（de）出現還存在第二個閾值。如果能量密度（dù）超過這一閾（yù）值，則基（jī）底材（cái）料將（jiāng）被（bèi）破壞。為在保證基底材料（liào）安全的（de）前提下進行有效的清潔，必須根據情況調整激光參（cān）數，使光脈衝的能量（liàng）密度嚴格（gé）處於兩個閾值之間。”也就是說在激光清洗的過程中會伴隨等離子清洗的產（chǎn）生。
