ITO玻璃在線等離子清洗機處理（lǐ）介紹

氧化銦錫 (ITO) 膜導電玻璃由（yóu）於具有高的可見光透射比和電導率, 而被（bèi）用（yòng）作液晶顯示 (LCD) 等平板顯示器的（de）透明導電電極。利用直（zhí）流或射頻磁控反應濺射技術, 通（tōng）過光（guāng）譜法控製ITO膜沉積速率, 能夠獲得均勻一致的可見光透射比和電導率的ITO膜導電玻璃。然而要（yào）生產（chǎn）出高質量的LCD, 還要求ITO膜層針孔少, 表麵無顆粒, 膜層粘（zhān）附力強（qiáng）。如果表麵有（yǒu）顆粒、大麵積針孔或粘附力（lì）不強而脫（tuō）落, 將會在液晶顯示屏上出現暗點或（huò）暗斑（bān）, 嚴重影響LCD的（de）質量（liàng）。用常規清洗烘幹處理玻璃基片, 很（hěn）難徹底清除吸（xī）附在表麵（miàn）的異物。又由於（yú）在運輸、搬運過程中其表麵仍暴露在大氣中, 難免會吸附上環境氣體、水汽和（hé）微塵, 如果不加處理, 會造成膜層與基片結合力不強、產生針孔和顆粒。通過在線等離子清洗機處理基片上吸附的環境氣體（tǐ）、水汽和汙物, 同時使基片表麵活化, 增強ITO膜與基片表（biǎo）麵的結合力, 從而大大提（tí）高了ITO 膜導電玻璃的（de）質量。

薄膜（mó）附（fù）著在（zài）基片上是薄膜與基片相互作用的結果, 它是一個複雜的（de）界麵物（wù）理和界麵化學的綜合問題。附著力是表示（shì）薄膜對基片附著程度的量。常用來解釋產生附著（zhe）力原因的有:範德華力, 擴散附著（zhe）力, 機械鎖合力, 靜電力和化學鍵力。範德（dé）華力是薄膜和基片之間相互極化產生的（de）, 隻要二（èr）原子或分子之間的距離足夠（gòu）小, 就（jiù）會產生範德華力, 它是一種普遍存（cún）在的力。擴散附著（zhe）力是（shì）薄膜與基片原子在界麵處相互擴散, 形（xíng）成一個漸變層界麵（miàn）而產生的附著力。機械鎖合力是（shì）指在（zài）沉積薄膜時, 薄膜原子或分子（zǐ）進（jìn）入基片表麵的微觀凹坑、孔隙中, 形成釘、鉤、鉚（mǎo）等機械鎖合力。靜電力是（shì）由於薄膜與（yǔ）基片之間電荷轉（zhuǎn）移而在界麵上形成雙電層的靜（jìng）電相互作用力。化學鍵力不是普（pǔ）遍存在的, 隻有在薄（báo）膜與基片界麵發（fā）生化合作用產生化學鍵時, 才會有化學鍵力。

當玻（bō）璃基片處在等離子體中時, 由於表麵受到等離子體中的荷能粒（lì） (電) 子的 轟擊, 首先基片表麵吸附的環境氣體、水（shuǐ）汽、汙物（wù）等被轟掉, 使表麵清潔活化, 表麵（miàn）能提高, 當沉積時薄膜（mó）原子或分子更好（hǎo）地浸潤基片（piàn）, 增大範德華力。其（qí）次玻璃基片表麵經過荷能粒 (電) 子的撞擊, 從微觀上（shàng）看, 基片（piàn）表麵會形成（chéng）許多凹坑、孔隙, 在沉積過程中薄膜原（yuán）子或分子進入（rù）這些凹坑、孔隙, 便產生了機械鎖合力。此外基片表麵的粗化, 使實際的表麵積增大, 這對增大範德（dé）華力、擴散附著力和靜電力都是有利的, 因（yīn）此增（zēng）大了總的附著（zhe）力（lì）。

經過等（děng）離子體處理後, 基片表麵清潔活化, 表麵能提（tí）高, 如果暴露在大氣中（zhōng）, 將很容易重新（xīn）吸附上環境氣體分（fèn）子、水汽和汙物等形（xíng）成二次汙染。因此, 將等離子體清洗設計成在線式是必要的。即等離子體清洗和薄膜沉積是在（zài）一條連續的生產線上, 在真空的環境中傳送玻璃基片。

等離子體清洗形成的微觀粗化表麵是（shì）原子或分（fèn）子級（jí）的。從宏觀上看, 基片表麵（miàn）去除水汽、汙物後, 更加平整和均勻（yún）。沉積上ITO膜後, 可獲得更加均勻一（yī）致的可見光透射比（bǐ）和電導（dǎo）率。

結論（lùn）

在線式等離子清洗機處理, 不僅有效地去除掉吸附在玻璃基片（piàn）上的（de）環境氣體分子、水汽和汙物, 在基片表麵形成清潔活化的微（wēi）觀粗糙麵, 而且（qiě）還避免了二次汙染, 使沉積薄膜的附著力比未經等離子體處理（lǐ）的（de）提高了3.5倍, 同（tóng）時也提高ITO膜的透光和導電性能。在線式等離子清洗機在ITO膜透明（míng）導電玻璃連續生產線上已經獲得了大量應（yīng）用。